薄膜的激光損傷與薄膜微缺陷有著密切的關系，微缺陷是薄膜產生激光損傷的重要誘因，大多數的激光損傷都是從薄膜中缺陷點處開始發生并逐漸向外發展的，因此高通量激光裝置的光學元件在系統高通量運行時，光學元件表面留有的雜質污染物，形成雜質缺陷或鍍膜后的節瘤缺陷，將導致高拋光度的玻璃或鍍膜表面損傷，降低光學元件的損傷閾值，另外光學元件表面殘留的有機污染物不僅產生有機吸收和熱透鏡等效應降低損傷閾值，也會降低光學元件膜層的附著力。因此，隨著神光－Ⅲ裝置更高通量的需求，要求光學元件有更高的激光損傷閾值，這就要求光學元件具有很高的潔凈度。
因此，光學元件在加工過程中和鍍膜前都需要潔凈清洗，保障元件表面高潔凈度，提高元件抗激光損傷能力。為了保證清洗方法在實踐加工中切實可行，而且保障清洗手段對光學元件有高效的潔凈能力又不損壞光學元件。近年來，國內外已經發展了諸多新清洗技術，如機械清洗技術、干冰清洗技術、激光清洗技術、超聲波和兆聲波清洗技術等，其中在光學元件的清洗領域，超聲波清洗技術作為一種高效、高潔凈度的清洗手段開始逐漸替代手工清洗。
超聲波清洗是在專用超聲波清洗機中進行的,超聲波清洗機的獨特優點在于猶如精致的小刷,具有強勁的穿刺力,夾留于手不可觸及的小洞穴及孔角地方污物,在清洗液中,經超聲振動所產生的空化作用而很快松動脫落。超聲波清洗是將工件懸放在盛有清洗液的清洗槽中,把超聲發生器發出的電信號,通過超聲換能器轉換成超聲振動并引入液體內,在超聲作用下使污垢脫落,達到清洗目的。
根據光學元件表面污染物的物理特性，可把污染物分為有機物、復合物污染和無機物污染。
超聲清洗效果與清洗液溫度及濃度、清洗頻率、超聲功率等工藝參數密切相關。超聲頻率與待清洗的污染物顆粒大小有直接的關系：超聲頻率越低，空化氣泡越大，清洗污染物顆粒越大，超聲頻率越高清洗污染物顆粒越小。
光學元件超聲清洗要求祛除大于１mm的無機污染物顆粒，必須采用大于170KHZ的頻率才能達到潔凈度要求。因此，選擇頻率為40，80，120，140，170，220，270KHz復頻的多槽（清洗槽、噴淋槽、漂洗槽、烘干槽）超聲波清洗機清洗光學元件。
